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[行业新闻] 磁控溅射镀膜仪的特色！
磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多！磁控溅射是物理气相沉积（PhysicalVaporDepositi发布时间：2020-06-30 点击次数：149
